2026-09-19 · 来源：{'name': "Tom's Hardware", 'url': 'https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/asml-snubs-elon-musk-backed-particle-accelerator-chipmaking-tech-firm-doubles-down-on-1-000w-laser-produced-plasma-systems-for-chipmaking-tools'}
这家 EUV 光刻机龙头正将其激光等离子体光源推向 1000W 功率级别,对埃隆·马斯克支持的基于粒子加速器的自由电子激光技术兴趣寥寥。
据 Tom's Hardware 报道,ASML 正在加码激光等离子体 (LPP) 作为其 EUV 光刻扫描仪的光源,将该技术的研发推向 1000W 级系统。公司在 LPP EUV 光源上持续取得进展,而这股势头正是它对另一种路线几乎提不起兴趣的关键原因——即面向芯片制造设备的基于粒子加速器的自由电子激光 (FEL) 光源。
FEL 概念并不缺少重磅支持者。EUV 扫描仪赖以为芯片蚀刻图形的极紫外光,其基于粒子加速器的产生方案得到了 Elon Musk 的力挺。但报告指出,随着自家等离子体光源不断进步,ASML 认为几乎没有理由围绕加速器技术重构其设备——这一立场实际上把 FEL 选项挤到了行业主流光刻路线图的边缘。
对芯片制造商而言,光源是撬动扫描仪生产率的关键杠杆:光源功率越高,通常意味着可用的 EUV 光更多、单台设备的产能也更大。因此,ASML 押注 1000W LPP 系统传递出的信号是:它有信心通过对现有架构的持续打磨继续兑现这些增益,而不必跃向一种生成光线的颠覆性全新方式。这一盘算,对于围绕 EUV 工艺节点规划产能的晶圆厂来说至关重要。
这次冷遇意味着,基于加速器的方案得不到最关键的一份背书——来自 EUV 光刻机龙头本身的采纳。除非 FEL 的支持者能证明其优势足以盖过 ASML LPP 路线的成熟度,否则在可预见的将来,这项技术恐怕仍将游离于主流芯片制造工具链之外。眼下,ASML 的扫描仪仍将从激光等离子体中获取光源——而且功率水平还在稳步攀升。
萬安算交所 AIXX · 算力硬件实名会员制交易平台 · 进入货源大厅