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Lithography 主题文章

共 4 篇 · 由萬安算交所资讯持续追踪

• 想买光刻机？ASML的谈判桌已经摆到了2030年
  2026-10-15 · CEO Christophe Fouquet断言芯片供不应求至少延续到2028年；当订单能见度越过两个自然年，算力竞赛的胜负手正从芯片厂悄悄前移到设备厂。
• 马斯克：中国两三年内可凭光刻与芯片制造补齐算力缺口
  2026-09-23 · 马斯克称中国大模型单位算力性能近全球顶尖，两三年内可补齐算力缺口
• 台积电敲定High-NA EUV时间表:2030年随A10或A11节点登场
  2026-09-10 · 台积电公布明确路线图,High-NA EUV光刻技术将于2030年投入应用,A10或A11制程为首选落地节点;2033年还将在新型光刻机上启用6×12英寸光罩。
• 三星、台积电联手ASML押注High NA EUV，同步推进12英寸转型
  2026-09-10 · 三星与台积电正与ASML协同，推动高数值孔径EUV光刻技术走向量产，并将新一代设备与更大尺寸的12英寸晶圆转型同步推进。

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