2026-09-16 · 来源：{'name': "Tom's Hardware", 'url': 'https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/jensen-huang-thinks-china-will-develop-its-own-advanced-lithography-systems-by-2030-nvidia-ceo-says-achievement-of-that-capability-is-just-a-matter-of-time'}
Nvidia首席执行官称,中国实现国产先进光刻「只是时间问题」,按三到四年的时间表推算,这个国家实际上「已经到了」。
Nvidia首席执行官Jensen Huang预计,中国将在2030年前研制出用于芯片制造的自研先进光刻系统,他把这一里程碑定性为必然,而非愿景。用他的话说,达到这一能力「只是时间问题」。
这一预测基于Huang的判断:中国正沿着一条三到四年的时间线,向自主研发先进半导体设备的目标推进。以这个进度衡量,他认为争论实际上已经终结:中国「已经到了」,剩下的变量只是执行与打磨,而不再是可行性本身。
这番话之所以分量十足,在于说话人的身份。Huang执掌的公司,其加速器支撑着全球大多数大规模AI算力部署,因此他对中国芯片制造轨迹的判断,正被设备供应商、代工厂运营商以及在权衡多年期产能决策的数据中心规划者密切注视。光刻位于半导体设备技术栈中最难啃的一环,如果中国在十年末能在这一层建立起可信的国产能力,全球设备供应链的结构性假设将被重新改写。
对AI算力采购方和投资者来说,这句话给出的是一个规划时间表,而非产品发布。Huang的公司命运与中国AI硬件市场的发展紧密相连,他把国产先进光刻视为一个附有明确日期的前提假设,而不是遥远的可能性。对冲中国半导体产能敞口的团队如今有了一份具体的情景日历:2030年——这是业内最具分量的声音之一所认定、已经启程的技术路线图上的时间点。
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